10月7日，证监会披露了国信证券股份有限公司关于瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导备案报告。

瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司已规模生产光刻胶30年，是国内光刻胶行业的领军企业之一，聚焦于半导体及显示面板应用领域，产品主要应用于FPD(LCD、TP、OLED、CF) LED、IC等相关电子行业，客户包括中芯国际、合肥长鑫、华虹半导体、晶合集成、三安光电、扬杰电子等国内知名半导体企业。

其中半导体光刻胶包括紫外宽谱光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶等，显示面板光刻胶包括触摸屏光刻胶、TFT-LCD光刻胶等。

2022年2月17日，眉山晶瑞二期年产1200吨集成电路关键电子材料项目举行了开工仪式。2023年一季度，项目已处于试生产状态，产能包括光刻胶中间体1000吨/年和光刻胶1200吨/年。

1、光刻胶对半导体产业的重要性

光刻机是半导体芯片制造过程中非常关键的设备,它通过对硅片进行光刻来生成电路图案,直接决定芯片的性能指标和制造良率。光刻胶是光刻机工作所必须的胶材料,它决定光刻的精细度,被称为“半导体心脏”。

多年来,光刻胶技术和材料一直被日本企业所垄断,中国企业几乎全部依赖进口。这成为外国限制我国半导体产业发展的“利器”。

美日两国对中国半导体企业采取各种打压措施,试图限制中国的技术发展。日本还恶意断供光刻胶给中国企业,导致产量大跌。

他们的目的是打击中国企业对光刻胶的依赖,削弱我国半导体产业实力。面对外部封锁,中国企业只能被动接受,国内产业发展受到严重影响。

二、高端光刻胶日本占75%，美韩占据25%基本被垄断

进口价中，低端光刻胶一瓶售价在2万至5万元左右。而高端EUV光刻胶价格在10万到20万不等。售价很高昂，其实就是几种感光材料抗氧化剂和树脂经过配比出来的其他。而国内最先进的光刻胶，只能生产28纳米至90纳米芯片。

目前只有南大光电和上海新洋，北京科华可以量产KRF光刻胶，然而自给率只有不到5%，虽然少但是也零的突破。

光刻胶本身不是高科技，难点在于十几种材料配比的问题。再一个就是需要有光刻机随时实验，单独买光刻机又非常高昂。1.5亿美元一台二手光刻机也要1000多万。

三、光刻胶难在哪？

光刻胶是一种胶水，在芯片制造过程中，往硅片上滴几滴，就会形成一层薄膜。然后通过特殊的光线，往薄膜上照一照。照完后，进行一系列蚀刻清洗工作，之后掩模上的图案就会被转移到光刻胶薄膜上面。

这种薄膜图案，再经过多次迭代，联同其他多个物理化学过程，最终就会形成集成电路。光刻胶在芯片制造中占据了40-50%的时间，这个过程需要在硅片上涂一层光刻胶，光刻胶的质量决定了光刻精度。

光刻胶的质量不佳可能导致薄膜不均匀、曝光不完整或显影过程中的问题，这都会影响到最终芯片的品质。光刻胶的生产过程是一个复杂且需要精密控制的过程。

虽然光刻胶只是胶水，但是它的生产需要精确控制各种参数。光刻胶生产商需要在一定的温度、搅拌速度和反应时间等条件下，将各种原材料混合并进行反应。

这个反应的过程中，需要控制反应进程的速率和温度等参数，以保证光刻胶的质量。同时，生产商还需要对光刻胶进行严格的质量控制和测试，以确保其符合制造芯片的要求。

光刻胶在芯片制造中的重要性不言而喻。它是制造芯片的必要材料，没有它，任何光刻机都无法工作。因此，在芯片制造过程中，选择和使用高质量的光刻胶，与拥有先进的光刻机同样重要。

只有掌握了光刻胶的质量控制和生产技术，才能在芯片制造领域中取得更大的成功。光刻胶是半导体制造中的重要材料之一，其生产环境要求极高的洁净度。

为了避免紫外光等光线干扰和尘埃污染，必须在黄光区的1000级洁净房中制作。光刻胶的主要原料包括感光材料、树脂和溶剂。在生产过程中，这些原料需要在恒温恒湿的环境下充分混合，确保其均匀。

同时，为了保证光刻胶的性能和质量，需要在生产过程中进行多次检验。光刻胶生产出来后，还要使用氮气气体进行封装，箱子也是定制的，以确保其在储存和运输过程中不受到氧化或污染。

想要把光刻胶生产出来，其背后的配方技术、质量控制技术跟原材料技术是必不可少的。配方技术决定了光刻胶的基本性能和功能，而原材料技术大大依赖于原材料的质量。

最后是质量控制技术，它确保每一批光刻胶都满足相同的高标准。只有这样，才能保证做出来的光刻胶品质一致。在光刻胶领域，90%以上的份额都被日本垄断，老美都得依赖它。

特别是对于10nm制程以下的光刻胶，基本上只有日企能够生产。在半导体材料方面，前段工序常用的材料一共19种，其中14种都由日本企业主导。因此，可以说，日本在半导体制造领域的地位不可撼动。

即使出现光刻机被卡的情况，用个二手的光刻机也行，但光刻胶被卡了，只能干瞪眼。因此，光刻胶在半导体制造中的地位十分重要。光刻胶是半导体制造过程中必不可少的材料之一。

不同制程的光刻机要使用对应种类的光刻胶，保质期也只有6个月，所以囤货是不可行的。此前，日本曾因与韩国关系紧张而断供光刻胶，导致三星芯片的良率仅有10%~20%。

虽然光刻胶只是“胶水”，但其复杂性仍然比不上光刻机，因此全球光刻胶市场规模只占半导体市场的1%。虽然国内企业也在研发光刻胶，但市场规模较小，不值得全国投入太多力量。

结尾

光刻胶作为半导体制造的重要组成部分，其关键性不言而喻。垄断问题虽然存在，但中国正在积极应对，通过自主创新和合作，希望能够减少对光刻胶供应的风险。半导体产业的未来需要继续投入努力，以确保中国在这一关键领域的竞争力和可持续发展。只有这样，才能确保不会出现因供应问题而束缚产业发展的困境。